光学膜涂布机之涂布头

光学膜涂布机电晕装置和涂布头

 

电晕装置

电晕装置的使用是根据需要对涂布的一面进行表面电击处理，使其具有更高的附着性。其原理是利用高频率高电压在被处理的塑料表面电晕放电，而产生低温等离子体，使塑料表面产生游离基反应从而使聚合物发生交联、表面变粗糙并增加其对极性溶剂的润湿性和附着能力。

 

涂布头

涂布头是整个涂布生产线的核心，目前光学膜涂布主要有COMMA KNIFE（逗号式刮刀）与SLOT DIE（狭缝式模头挤出涂布）两种形式。

 

COMMA KNIFE适合的涂布厚度为18～100μm，涂布液粘度较高，其突出的优点是改变涂布宽度比较容易，另供胶系统也相对简单。但存在涂布液大面积暴露的问题，因此必须保证涂布头的洁净度。

 

SLOT DIE狭缝式涂布是一种预计量的涂布方式，就是说涂布量取决于输入涂布液量与基材运行速度之比，可预先精确设定。通常都采用高精度无脉冲计量泵来输送涂布液量。SLOT DIE涂布可分为背辊直接接触和基材张力控制两种方式，光学膜涂布采用背辊直接接触式为主。这种涂布厚度范围较宽，约为3～300μm，可满足不同的使用要求，适合生产速度从低到高均可。其涂布精度受背辊本身的平直度以及轴承的跳动影响，由于涂布间隙很小，对基材厚度变化及表面异物影响非常敏感。生产过程中更换涂布液品种时内部清洁比较困难，需用溶剂反复清洗。

 

两种涂布头涂层干后厚度误差均可控制在1μm以内。其中SLOT DIE狭缝式涂布机精度更高，造价昂贵，并需配置完善的供胶系统。

 

光学膜涂布机的要求与其他光学膜涂布生产线类似，要求制造精密、控制准确。